Čištění turbínových kondenzátorů

Provozní problémy turbínových kondenzátorů

Během provozu turbínových kondenzátorů se na vnitřním povrchu trubek kondenzátoru uvolňují vodní usazeniny a produkty koroze. Hlavními složkami sedimentů jsou především:

• uhličitany
• zásadité uhličitany
• křemičitany a sírany kovů, jako je vápník, hořčík, železo, měď a zinek

Tento problém se zhoršuje zejména u chladících systémů s otevřeným okruhem napájených říční vodou. Kvalita vody se mění v závislosti na ročním období a povětrnostních podmínkách. Vzhledem k povaze zdroje se do kondenzátorů dostává značné množství bahna, písku a jemného dřeva. Tyto nečistoty usazené na dně síta kondenzátorů mohou omezit průtok vody v trubkách, což vede ke zvýšení teploty vody, která podporuje úbytek uhličitanových usazenin a rozklad organických sloučenin na dusičnany, dusitany, amoniak, sulfidy atd.

Tloušťka sedimentu se mezi jednotlivými intervaly čištění pohybuje od jednoho do několika milimetrů. Analýzy struktury jednotlivých vrstev sedimentu ukazují, že proces jejich vzniku je velmi odlišný a nerovnoměrný, což je způsobeno periodickým výskytem významného množství suspenzí.

Pro zajištění správného a optimálního provozu zařízení je nutné udržovat vysoký stupeň čistoty vnitřního povrchu trubek kondenzátoru, a to jak z důvodu nutnosti zajistit dobrý přenos tepla, tak z důvodu snížení intenzity korozních procesů (koroze podsedimentem, selektivní koroze a další). Proto je nutné během provozu a rekonstrukce trubky pravidelně čistit metodami odpovídajícími typu usazenin, materiálu trubek a provedení výměníku.

Bezpečnost použité technologie aktivní pěny

Usazeniny, které se odstraňují při chemickém čištění trubek kondenzátoru, jsou především ty, které se uvolňují z chladicího média na vnitřním povrchu trubek a ochranné oxidové vrstvy, které vznikají při provozu mosazných trubek při kontaktu s chladící vodou.

Inhibice čistícího roztoku používaného v technologii aktivní pěny minimalizuje negativní účinky chemických složek čistící lázně na specifické povrchy mosazných trubek.
 

Typický proces čištění pomocí aktivní pěny se skládá z následujících fází:

Celková doba procesu čištění kondenzátorů chemickou aktivní pěnou se pohybuje v rozmezí od několika hodin do více než deseti hodin v závislosti na velikosti systému, typu usazenin a typu konstrukčních materiálů.